Установка предназначена для травления полупровдниковых и диэлектрических слоев. Установка плазмо-химического травления с индуктивно связанной плазмой позволяет обеспечивать высокие скорости травления с низким уровнем радиационных дефектов. Установка имеет восемь газовых магистралей, позволяющих варьировать газовую смесь в рабочей камере. Установка снабжена загрузочным шлюзом. Вакуумная камера откачивается высокопроизводительным турбомолекулярным насосом.