Установка предназначена для вакуумного магнетронного напыления металлов и диэлектрических покрытий различного функционального назначения: просветляющие покрытия, контактные площадки, маски для фотолитографии, прозрачные проводящие покрытия. Основной особенностью метода является высокая адгезия покрытий и большая скорость напыления. Благодаря многоканальной системе напуска газа, покрытия можно осаждать с помощью реактивного напыления. Предусмотрена система нагрева подложек до 200°С. Контроль толщины покрытия осуществляется методом микробаланса кварцевого кристалла.