Лаборатория возобновляемых источников энергии

Система лазерной обработки фоторезистов

Первая отечественная лабораторная система прецизионного экспонирования фотоактивных полимеров (фоторезистов)  на базе оптического элемента с магнитным подвесом.

Специализация

Прецизионная 2/2.5D лазерная литография любых полимеров, чувствительных к длине волны 405 нм.

Применение

Субмикронная литография на стекле со слоем Al

Безмасковая литография является неотъемлемой технологической составляющей для фундаментальных и прикладных исследований, разработок и производства в области микро-/ наноструктур, электроники, R&D прототипирования, мелкосерийного производства радиоэлектронных компонентов.

Программное обеспечение гибко управляет оптическим модулем и системой позиционирования, позволяя подстраиваться под геометрические особенности конкретного дизайна.

Литография 3-х дюймовой Si-подложке

Специализированная моноблочная оптическая система в совокупности с оригинальными технико-конструкторскими решениями обеспечивают прецизионную точность и высокое качество литографии.

Фотошаблон стекло/Al (100х100 мм)

ОПЦИИ

Шаговые/Серво-/ Линейные двигатели 
Климат-контроль рабочей камеры 
Вакуумный стол под требования заказчика
✅ Растровые преобразователи линейных перемещений
✅ Видеосистема наведения и совмещения литографий
Мини-компьютер управления

Технические характеристики

ПараметрЗначение
Длина волны лазера405 нм
Разрешение литографии0,5 мкм
Период записываемой дифракционной решетки/фактор заполнения0,7 мкм / 50%
Размер подложкиОт 3х3 до 200х200 мм2
Максимальная площадь экспонирования150х150 мм2
Производительность экспонирования1-5 мм2/мин
Система автофокуса/ диапазон подстройкиОптический автофокус / 120 мкм
Режим экспонирования «градации серого»128/256 уровней серого
Оптическая камера обзора для навигации по подложке и совмещения меток1 камера с полем зрения 0,1х01 мм2
Максимальная толщина подложкидо 15 мм
Точность при совмещении литографийНе хуже 1 мкм
Количество линейных осей перемещения3
Рабочая скорость перемещения осей Х, Y10-20 мм/с
Дискретность перемещения по осям Х и Y≤ 0,3 мкм
Дискретность перемещения по оси Z≤5 мкм (грубый фокус) ≤ 0.1 мкм (точный фокус)
Напряжение питанияАС 100-240В, 50/60 Гц
Максимальная потребляемая мощность, кВт5
Класс используемого лазерного излученияВ соответствии с международными правилами ЕN 60825-1:2007
Масса280 кг

КОНТАКТЫ

📱+7 (812) 240-5060